산업과학기술연구소가 이온도금에 활용되는 아크방전유도형 이온플레이팅
(AIIP)기술및 장치를 개발했다.
15일 산업과학기술연구소는 이번에 개발한 AIIP기술이 증발원과
보조 전극사이에 아크방전을 유도, 기존 이온플레이팅기술보다
높은 이온화율을 가져오게된다고 밝혔다.
또 두개의 증발원을 동시 또는 순서대로 이용, 합금및 다층도금을
할수있어 새로운 도금방법으로 활용할수 있다.
연구소측은 AIIP기술및 장치가 현재활용되는 증발원보다 20%이상
비용이 절감되는 증발원을 쓰기때문에 도금원가를 절감시키게 된다고
설명했다.
이 기술은 공구 장식 신소재개발 광학및 투명전도체도금업체등에서
이온도금공정에 폭넓게 이용될 것으로 보인다.
연구소측은 오는 8월까지 AIIP기술및 장치의 공정단순화및 제어장치
자동화를 끝내고 관련업체에 기술을 이전키로 했다.